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    瑞典林雪平大学的研究人员提出一种中子镜改进方法，可提高中子源的材料分析效率，并已应用于位于瑞典隆德的欧洲散裂源（ESS）。相关研究结果发表在期刊《Science Advances》上。

　　研究人员通过磁控溅射工艺，在中子镜的硅基板上涂覆掺有碳化硼的铁和硅多层薄膜，形成非晶化和光滑界面，从而实现更高的中子反射率、更少的漫散射和更高的偏振，同时磁矫顽力被消除，可在低外部磁场下达到磁饱和。这种改进中子光学的方法有效地增加了欧洲散裂源的中子数量，提高了数据精度，为物理、化学、生物学和医学等学科的开创性实验和突破性发现提供了机会。

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